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    Inicio»Comunicados de Prensa»Diseñador Matías Hernán al New York Fashion Week 2016
    Comunicados de Prensa

    Diseñador Matías Hernán al New York Fashion Week 2016

    14 diciembre, 2015 - 14:373 Mins Read

    El artista chileno, ganador del Project Runway 2013, participará en el “Digital Couture Project” de Epson, donde se exhibirán sus propuestas vanguardistas diseñadas mediante la técnica de la sublimación.

     

    EPSON – 10 de Diciembre de 2015- El diseñador Matías Hernán es la carta de Epson Chile para participar en el “Digital Couture Project – Epson New York Fashion Week 2016”, que se realizará durante la semana de la moda de Nueva York. El estilo de vanguardia futurista del modisto nacional se impuso en esta segunda versión para plasmar sus diseños en la impresora de sublimación Epson SureColor Serie F, poniendo la tecnología al servicio de la creatividad en la moda.

     

    El talento de Matías Hernán está avalado por su destacada participación en el escenario de la moda chilena desde 2009 y que se coronó con su triunfo en Project Runway LatinAmerica 2013.

     

    El representante de Chile en el Digital Couture de EPSON fue seleccionado de un grupo de destacados diseñadores nacionales, quienes compitieron por un cupo para mostrar sus diseños en las pasarelas de Nueva York.

     

    Los participantes tuvieron que elaborar sus creaciones con la moderna herramienta tecnológica de la sublimación digital de telas, desarrollada por Epson, pionera en esta innovación fundamental para la moda del siglo XXI.

     

    La sublimación es una técnica desarrollada por Epson para la impresión de telas mediante la transferencia de la tinta mediante la aplicación de calor.

     

    Ahora la misión de Matías Hernán consiste en desarrollar una minicolección de cuatro tenidas de temporada Otoño, bajo el concepto de “Armonía y paz a través de la Moda”, para ser expuestas en el gran evento Digital Couture Epson, la segunda semana de febrero de 2016, junto a los diseños de modistos de 10 países, entre ellos, Brasil, México, Colombia, Perú, Argentina, Chile, Costa Rica, Ecuador y  Estados Unidos.

     

    Los diseños serán impresos en la nueva SureColor Línea F, un equipo de alta flexibilidad cuyo mayor provecho dependerá de las capacidades creativas de los modistos.

     

    Matías Hernán afirmó estar muy motivado con su presentación en Nueva York, destacando que “hace mucho tiempo que estoy trabajando con la sublimación en todo su espectro en las telas que yo hago, también con pelucas, sé que va a ser muy bueno el resultado. Estoy muy contento con esta oportunidad”.

     

    “Es un gran evento que congrega el mundo del diseño textil  de Latinoamérica a través de la sublimación, donde la creatividad de 10 diseñadores fluye en torno a esta técnica” comentó la nueva Gerente de Marketing de Epson Chile, Soledad Camps.

     

    En 2015, el ganador fue Marco Antonio Farías, quien fue elegido como el mejor creador en sublimación del año, luego de competir con los exclusivos trabajos de un grupo de 7 importantes diseñadores nacionales.

     

    Acerca de Epson

    Epson es líder mundial en imagen digital e innovación, cuya finalidad es superar las expectativas de los consumidores de todo el mundo a través de sus tecnologías compactas, ecológicas y de alta precisión, con una gama de productos que abarca desde impresoras y proyectores 3LCD para empresas y hogares hasta dispositivos electrónicos y de cristal líquido. Liderado por Seiko Epson Corporation con sede en Japón, el Grupo Epson cuenta con aproximadamente 75.000 empleados distribuidos en 100 empresas de todo el mundo y se siente orgulloso de sus actuales contribuciones al medio ambiente y a las comunidades en las que opera.

    http://global.epson.com/

     

    Fuente: Tálamo Comunicaciones. 

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